@InProceedings{SilvaTrav:2016:OtPaDe,
author = "Silva, Bruna Henrique da and Trava-Airoldi, Vladimir Jesus",
affiliation = "ETEP and {Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)}",
title = "Otimiza{\c{c}}{\~a}o dos par{\^a}metros de
deposi{\c{c}}{\~a}o de filmes de DLC (Diamond Like Carbon) como
fun{\c{c}}{\~a}o da polariza{\c{c}}{\~a}o e largura do pulso
em superf{\'{\i}}cie Ti6Al4V",
year = "2016",
organization = "Semin{\'a}rio de Inicia{\c{c}}{\~a}o Cient{\'{\i}}fica e
Inicia{\c{c}}{\~a}o em Desenvolvimento Tecnol{\'o}gico e
Inova{\c{c}}{\~a}o (SICINPE)",
publisher = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais",
address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos, SP",
note = "{Bolsa PIBIC/INPE/CNPq}",
abstract = "O grande interesse na utiliza{\c{c}}{\~a}o de filmes de carbono
tipo diamante (DLC) {\'e} justificado devido {\`a}s suas
not{\'a}veis propriedades mec{\^a}nicas e tribol{\'o}gicas,
como alta dureza, elevada resist{\^e}ncia ao desgaste,
in{\'e}rcia qu{\'{\i}}mica, e baix{\'{\i}}ssimo coeficiente
de atrito. Essa combina{\c{c}}{\~a}o de propriedades singulares
confere ao revestimento aplica{\c{c}}{\~o}es nas mais diversas
{\'a}reas. No entanto, o elevado n{\'{\i}}vel de tens{\~o}es
compressivas, que se originam durante o crescimento do filme,
dificulta a obten{\c{c}}{\~a}o de alta ader{\^e}ncia. O
objetivo deste trabalho est{\'a} centrado na obten{\c{c}}{\~a}o
de uma rela{\c{c}}{\~a}o clara dos par{\^a}metros de descarga e
gera{\c{c}}{\~a}o do plasma em fun{\c{c}}{\~a}o da
varia{\c{c}}{\~a}o dos valores de alta tens{\~a}o de
polariza{\c{c}}{\~a}o e largura de pulso em substratos de liga
de Tit{\^a}nio (Ti6Al4V), geralmente muito usada em
aplica{\c{c}}{\~o}es espaciais e industriais. Para a
obten{\c{c}}{\~a}o dos resultados utilizou-se a t{\'e}cnica de
deposi{\c{c}}{\~a}o de filmes finos por deposi{\c{c}}{\~a}o
qu{\'{\i}}mica a vapor assistida por plasma, PECVD (Plasma
Chemical Enhanced Vapor Deposition), esta se destaca devido a
algumas particularidades. Esse processo {\'e} limpo, seco,
r{\'a}pido, relativamente barato e de f{\'a}cil
execu{\c{c}}{\~a}o. Com isso proporciona materiais uniformes,
homog{\^e}neos, livres de defeitos e com propriedades fortemente
dependentes dos par{\^a}metros de deposi{\c{c}}{\~a}o. Os
filmes obtidos foram caracterizados pelas t{\'e}cnicas de
Perfilometria {\'o}ptica e ensaios tribol{\'o}gicos que
avaliaram a qualidade e ades{\~a}o ao substrato utilizado.",
conference-location = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos, SP",
conference-year = "25-26 jul.",
language = "pt",
ibi = "8JMKD3MGP3W34P/3N5DS3E",
url = "http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W34P/3N5DS3E",
targetfile = "Silva_otimizacao.pdf",
urlaccessdate = "28 abr. 2024"
}